Projekty finansowane przez NCN

Dane kierownika projektu i jednostki realizującej

Szczegółowe informacje o projekcie i konkursie

Słowa kluczowe

Aparatura

Wyczyść formularz

Wysokorozdzielcza litografia optyczna i elektronowa przy użyciu rezystów na bazie cieczy jonowych

2019/35/B/ST8/03736

Słowa kluczowe:

fotolitografia litografia elektronowa polimeryzowalna ciecz jonowa fotorezyst

Deskryptory:

  • ST8_001: Inżynieria chemiczna, chemia techniczna, inżynieria środowiska, inżynieria sanitarna, inżynieria procesowa

Panel:

ST8 - Inżynieria procesów i produkcji: projektowanie wyrobów, projektowanie i sterowanie procesami produkcji, konstrukcje i procesy budowlane, inżynieria materiałowa, systemy energetyczne

Jednostka realizująca:

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

woj. mazowieckie

Inne projekty tej jednostki 

Kierownik projektu (z jednostki realizującej):

dr Katarzyna Małgorzata Komorowska 

Liczba wykonawców projektu: 9

Konkurs: OPUS 18 - ogłoszony 2019-09-16

Przyznana kwota: 1 351 320 PLN

Rozpoczęcie projektu: 2020-08-27

Zakończenie projektu: 2023-05-26

Planowany czas trwania projektu: 33 miesięcy (z wniosku)

Status projektu: Projekt rozliczony

Opis Projektu

Pobierz opis projektu w formacie .pdf

Uwaga - opisy projektów zostały sporządzone przez samych autorów wniosków i w niezmienionej formie umieszczone w systemie.

Dane z raportu końcowego/rocznego

  • Publikacje w czasopismach (7)
  • Teksty w publikacjach pokonferencyjnych (1)
  1. Interaction of electron beam with ionic liquids and its application for micropatterning
    Autorzy:
    Krzysztof Rola, Adrian Zając, Andrea Szpecht, Dominik Kowal, Janna Cybinska, Marcin Śmiglak
    Czasopismo:
    European Polymer Journal (), Wydawca: Elsevier
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1016/j.eurpolymj.2021.110615 - link do publikacji
  2. Synthesis and Behavior of Hexamethylenetetramine-Based Ionic Liquids as an Active Ingredient in Latent Curing Formulations with Ethylene Glycol for DGEBA
    Autorzy:
    Dawid Zieliński, Andrea Szpecht, Paulina Hinc, Marcin Śmiglak
    Czasopismo:
    Molecules (rok: 2023, tom: 28, strony: 892), Wydawca: MDPI
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.3390/molecules28020892 - link do publikacji
  3. Interaction of electron beam with ionic liquids and its application for micropatterning
    Autorzy:
    Krzysztof Rola, Adrian Zając, Andrea Szpecht, Dominik Kowal, Janna Cybinska, Marcin Śmiglak
    Czasopismo:
    European Polymer Journal (rok: 2021, tom: 5, strony: 110615/1-110615/12), Wydawca: Elsevier
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1016/j.eurpolymj.2021.110615 - link do publikacji
  4. Optical Fiber Grating-Prism Fabrication by Imprint Patterning of Ionic-Liquid-Based Resist
    Autorzy:
    Natalia Turek, Piotr Pala, Andrea Szpecht, Adrian Zając, Teresa Sembratowicz, Tadeusz Martynkien, Marcin Śmiglak, K. Komorowska
    Czasopismo:
    International Journal of Molecular Sciences (rok: 2023, tom: 24, strony: 1370), Wydawca: MDPI
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.3390/ijms24021370 - link do publikacji
  5. Thermal and Electrochemical Properties of Ionic Liquids Bearing Allyl Group with Sulfonate-Based Anions—Application Potential in Epoxy Resin Curing Process
    Autorzy:
    Andrea Szpecht, Dawid Zieliński, Maciej Galiński, Marcin Śmiglak
    Czasopismo:
    Molecules (rok: 2023, tom: 28, strony: 709), Wydawca: MDPI
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.3390/molecules28020709 - link do publikacji
  6. Grism fabricated on the end-face of an optical fiber
    Autorzy:
    Piotr Pala, Katarzyna Komorowska, Andrea Szpecht, Tadeusz Martynkien
    Czasopismo:
    Optics Express (rok: 2023, tom: 31, strony: 23362-23371), Wydawca: Optica Publishing Group
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1364/OE.491386 - link do publikacji
  7. Mono N‐Alkylated DABCO-Based Ionic Liquids and Their Application as Latent Curing Agents for Epoxy Resins
    Autorzy:
    Dawid Zielinski, Andrea Szpecht, Paulina Hinc, Hieronim Maciejewski, and Marcin Smiglak
    Czasopismo:
    ACS Applied Polymer Materials (rok: 2021, tom: 3, strony: 5481-5493), Wydawca: ACS Publications
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1021/acsapm.1c00777 - link do publikacji
  1. Electron beam and optical patterning of polymerizable ionic liquid-based resists
    Autorzy:
    Natalia Turek, Andrea Szpecht, Aleksandra Szymańska, Tomasz Stefaniuk, Katarzyna Komorowska
    Konferencja:
    Advances in Patterning Materials and Processes XL (rok: 2023, tom: SPIE: Advanced Lithography and Patterning, strony: 124981S-1 - 124981S-5), Wydawca: SPIE Proceedings
    Data:
    konferencja 26.02-02.03.2023
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1117/12.2658445 - link do publikacji

O Narodowym Centrum Nauki

Finansowanie nauki

Współpraca zagraniczna

Centrum prasowe

Deklaracja dostępności
Przetwarzanie danych osobowych
Polityka cookies

Partnerzy