Projekty finansowane przez NCN
Wysokorozdzielcza litografia optyczna i elektronowa przy użyciu rezystów na bazie cieczy jonowych
2019/35/B/ST8/03736
Słowa kluczowe:
fotolitografia litografia elektronowa polimeryzowalna ciecz jonowa fotorezyst
Deskryptory:
- ST8_1: Inżynieria chemiczna, chemia techniczna, inżynieria środowiska, inżynieria sanitarna, inżynieria procesowa
Panel:
ST8 - Inżynieria procesów i produkcji: projektowanie wyrobów, projektowanie i sterowanie procesami produkcji, konstrukcje i procesy budowlane, inżynieria materiałowa, systemy energetyczne
Jednostka realizująca:
Sieć Badawcza ŁUKASIEWICZ - Instytut Mikroelektroniki i Fotoniki
woj.
Kierownik projektu (z jednostki realizującej):
dr Katarzyna Małgorzata Komorowska
Liczba wykonawców projektu: 9
Konkurs: OPUS 18 - ogłoszony 2019-09-16
Przyznana kwota: 1 351 320 PLN
Rozpoczęcie projektu: 2020-08-01
Zakończenie projektu: 2023-05-26
Planowany czas trwania projektu: 33 miesięcy (z wniosku)
Status projektu: Projekt zakończony
Opis Projektu
Pobierz opis projektu w formacie .pdf
Uwaga - opisy projektów zostały sporządzone przez samych autorów wniosków i w niezmienionej formie umieszczone w systemie.
Dane z raportu końcowego/rocznego
- Publikacje w czasopismach (4)
- Mono N‐Alkylated DABCO-Based Ionic Liquids and Their Application as Latent Curing Agents for Epoxy ResinsAutorzy:Dawid Zielinski, Andrea Szpecht, Paulina Hinc, Hieronim Maciejewski, and Marcin SmiglakCzasopismo:ACS Applied Polymer Materials (rok: 2021, tom: 3, strony: 5481-5493), Wydawca: ACS PublicationsStatus:OpublikowanaDoi:10.1021/acsapm.1c00777 - link do publikacji
- Interaction of electron beam with ionic liquids and its application for micropatterningAutorzy:Krzysztof Rola, Adrian Zając, Andrea Szpecht, Dominik Kowal, Janna Cybinska, Marcin ŚmiglakCzasopismo:European Polymer Journal (rok: 2021, tom: 5, strony: 110615/1-110615/12), Wydawca: ElsevierStatus:OpublikowanaDoi:10.1016/j.eurpolymj.2021.110615 - link do publikacji
- Mono N‐Alkylated DABCO-Based Ionic Liquids and Their Application as Latent Curing Agents for Epoxy ResinsAutorzy:Dawid Zielinski, Andrea Szpecht, Paulina Hinc, Hieronim Maciejewski, and Marcin SmiglakCzasopismo:ACS Applied Polymer Materials (rok: 2021, tom: 3, strony: 5481-5493), Wydawca: ACS PublicationsStatus:OpublikowanaDoi:10.1021/acsapm.1c00777 - link do publikacji
- Interaction of electron beam with ionic liquids and its application for micropatterningAutorzy:Krzysztof Rola, Adrian Zając, Andrea Szpecht, Dominik Kowal, Janna Cybinska, Marcin ŚmiglakCzasopismo:European Polymer Journal (rok: 2021, tom: 5, strony: 110615/1-110615/12), Wydawca: ElsevierStatus:OpublikowanaDoi:10.1016/j.eurpolymj.2021.110615 - link do publikacji