Projekty finansowane przez NCN
Wpływ implantacji jonów na powstawanie defektów i domieszkowanie tlenku galu
2020/39/B/ST5/03580
Słowa kluczowe:
tlenek galu RBS PIXE XAFS XPS DFT
Deskryptory:
- ST5_3: Modyfikacja powierzchni materiałów
- ST5_13: Metody badań materiałów /nanomateriałów
- ST3_4: Własności elektronowe materiałów, powierzchni, złącz międzywarstwowych, nanostruktur, itp.
Panel:
ST5 - Synteza i materiały: otrzymywanie materiałów, związki struktury z właściwościami, nowoczesne materiały o założonych właściwościach, architektura (makro)molekularna, chemia organiczna, chemia nieorganiczna
Jednostka realizująca:
Uniwersytet Warszawski, Wydział Chemii
woj. mazowieckie
Kierownik projektu (z jednostki realizującej):
Liczba wykonawców projektu: 6
Konkurs: OPUS 20 - ogłoszony 2020-09-15
Przyznana kwota: 1 510 604 PLN
Rozpoczęcie projektu: 2021-07-01
Zakończenie projektu: 2024-07-21
Planowany czas trwania projektu: 36 miesięcy (z wniosku)
Status projektu: Projekt zakończony
Opis Projektu
Pobierz opis projektu w formacie .pdf
Uwaga - opisy projektów zostały sporządzone przez samych autorów wniosków i w niezmienionej formie umieszczone w systemie.