Projekty finansowane przez NCN

Dane kierownika projektu i jednostki realizującej

Szczegółowe informacje o projekcie i konkursie

Słowa kluczowe

Aparatura

Wyczyść formularz

Hybrydowy model procesu chemicznego profilowania głębokościowego warstw organicznych

2013/09/B/ST4/00094

Słowa kluczowe:

rozpylanie,analiza składu chemicznego,spektrometria masowa wtórnych jonów SIMS,modelowanie komputerowe,profilowanie głębokościowe,materiały organiczne

Deskryptory:

  • ST4_5: Chemia i fizykochemia powierzchni
  • ST4_3: Metody spektroskopowe i spektrometryczne

Panel:

ST4 - Chemia analityczna i fizyczna: chemia analityczna, metody teoretyczne w chemii, chemia fizyczna/fizyka chemiczna

Jednostka realizująca:

Uniwersytet Jagielloński, Wydział Fizyki, Astronomii i Informatyki Stosowanej

woj. małopolskie

Inne projekty tej jednostki 

Kierownik projektu (z jednostki realizującej):

prof. Zbigniew Postawa 

Liczba wykonawców projektu: 4

Konkurs: OPUS 5 - ogłoszony 2013-03-15

Przyznana kwota: 323 910 PLN

Rozpoczęcie projektu: 2014-02-17

Zakończenie projektu: 2016-10-16

Planowany czas trwania projektu: 32 miesięcy (z wniosku)

Status projektu: Projekt rozliczony

Zakupiona aparatura

  1. Wieloprocesorowy komputer obliczeniowy Tytan. Za kwotę 31 385 PLN
  2. Nod komputerowy (komputer) (2 szt.). Za kwotę 20 000 PLN
  3. Nod komputerowy (komputer) (2 szt.). Za kwotę 20 000 PLN
  4. Nod komputerowy (komputer). Za kwotę 10 000 PLN

Dane z raportu końcowego/rocznego

  • Publikacje w czasopismach (15)
  1. Computer simulations of sputtering and fragment formation during keV C60 and Ar872 bombardment of octane and b-carotene
    Autorzy:
    Z. Postawa, M. Kanski, D. Maciazek, R.J. Paruch, B.J. Garrison
    Czasopismo:
    Surface and Interface Analysis (rok: 2014, tom: 46, strony: 3), Wydawca: John Wiley & Sons
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1002/sia.5550 - link do publikacji
  2. Effect of Substrate Thickness on Ejection of Phenylalanine Molecules Adsorbed on Free-standing Graphene Bombarded by 10 keV C60
    Autorzy:
    M. Golunski, S.V. Verkhoturov, D.S. Verkhoturov, E.A. Schweikert, Z. Postawa
    Czasopismo:
    Nuclear Instum. Meth. B (rok: 2017, tom: 393, strony: 13), Wydawca: Elsevier B.V.
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1016/j.nimb.2016.09.006 - link do publikacji
  3. Micro- and Macroscopic Modeling of Sputter Depth Profiling
    Autorzy:
    D. Maciazek, R. Paruch, Z. Postawa, B.J Garrison
    Czasopismo:
    J. Phys. Chem. C (rok: 2016, tom: 120, strony: 25473), Wydawca: AMERICAN CHEMICAL SOCIETY
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1021/acs.jpcc.6b09228 - link do publikacji
  4. On universality in sputtering yields due to cluster bombardment
    Autorzy:
    R.J. Paruch, B.J. Garrison, M. Mlynek and Z. Postawa
    Czasopismo:
    Journal of Physical Chemistry Letters (rok: 2014, tom: 5, strony: 3227), Wydawca: American Chemical Society
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1021/jz501545t - link do publikacji
  5. Seduction of Finding Universality in Sputtering Yields Due to Cluster Bombardment of Solids
    Autorzy:
    R.J. Paruch, Z. Postawa, B.J. Garrison
    Czasopismo:
    Accounts of Chemical Research (rok: 2015, tom: 48, strony: 2529), Wydawca: American Chemical Society Publications
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1021/acs.accounts.5b00303 - link do publikacji
  6. Effect of Oxygen Chemistry in Sputtering of Polymers
    Autorzy:
    M. Kanski, B.J. Garrison, Z. Postawa
    Czasopismo:
    Journal of Physical Chemistry Letters (rok: 2016, tom: 7, strony: 1559), Wydawca: American Chemical Society
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1021/acs.jpclett.6b00514 - link do publikacji
  7. Computer Modelling of Angular Emission from Ag(100) and Mo(100) Surfaces due to Arn Cluster Bombardment
    Autorzy:
    D. Maciazek, M. Kanski, L. Gaza, B.J. Garrison, Z. Postawa
    Czasopismo:
    Journal of Vacuum Science and Technology B (rok: 2016, tom: 34, strony: 03H114), Wydawca: American Vacuum Society
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1116/1.4942202 - link do publikacji
  8. Physical Basis of Energy per Cluster Atom in the Universal Concept of Sputtering
    Autorzy:
    R.J. Paruch, Z. Postawa, B.J. Garrison
    Czasopismo:
    Journal of Vacuum Science & Technology B (rok: 2016, tom: 34, strony: 03H105), Wydawca: AVS: Science & Technology of Materials, Interfaces, and Processing
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1116/1.4940153 - link do publikacji
  9. CO2-Cluster SIMS", Journal of American Mass Spectrometry Society
    Autorzy:
    H. Tian, D. Maciazek, Z. Postawa, B. J. Garrison, N. Winograd
    Czasopismo:
    Journal of American Mass Spectrometry Society (rok: 2016, tom: 27, strony: 1476), Wydawca: American Society for Mass Spectrometry
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1007/s13361-016-1423-z - link do publikacji
  10. Computed Molecular Depth Profile for C60 Bombardment of a Molecular solid
    Autorzy:
    Robert J. Paruch, Barbara J. Garrison and Zbigniew Postawa
    Czasopismo:
    Analytical Chemistry (rok: 2014, tom: 85, strony: 11628), Wydawca: American Chemical Society
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1021/ac403035a - link do publikacji
  11. Computer Simulations of Material Ejection during C60 and Arm bombardment of Octane and beta-carotene
    Autorzy:
    G. Palka, M. Kanski, D. Maciazek, B. J. Garrison and Z. Postawa
    Czasopismo:
    Nuclear Instuments and Methods B (rok: 2015, tom: 352, strony: 202), Wydawca: Elsevier
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1016/j.nimb.2014.11.108 - link do publikacji
  12. Effect of Sample Thickness on Carbon Ejection from Ultrathin Graphite Bombarded by keV C60
    Autorzy:
    M. Golunski and Z. Postawa
    Czasopismo:
    Acta Phys. Pol. A (rok: 2017, tom: 132, strony: 222), Wydawca: Jagiellonian University
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.12693/APhysPolA.132.222 - link do publikacji
  13. How material properties affect depth profiles – insight from computer modeling
    Autorzy:
    R.J. Paruch, Z. Postawa, B.J. Garrison
    Czasopismo:
    Surface and Interface Analysis (rok: 2014, tom: 46, strony: 253), Wydawca: John Wiley & Sons
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1002/sia.5423 - link do publikacji
  14. Simple Model of Surface Roughness for Binary Collision Sputtering Simulations
    Autorzy:
    S.J. Lindsey, G. Hobler, D. Maciazek, and Z. Postawa
    Czasopismo:
    Nuclear Instum. Meth. B (rok: 2017, tom: 393, strony: 17), Wydawca: Elsevier B.V.
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1016/j.nimb.2016.09.028 - link do publikacji
  15. Sputtering of Octatetraene by 15 keV C60 Projectiles: Comparison of Reactive Interatomic Potentials
    Autorzy:
    M. Kanski, D. Maciazek, M. Golunski, Z. Postawa
    Czasopismo:
    Nuclear Instum. Meth. B (rok: 2017, tom: 393, strony: 29), Wydawca: Elsevier B.V.
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.023 - link do publikacji

O Narodowym Centrum Nauki

Finansowanie nauki

Współpraca zagraniczna

Centrum prasowe

Deklaracja dostępności
Przetwarzanie danych osobowych
Polityka cookies

Partnerzy