Angular distribution of photoelectrons emitted by the laboratory soft and hard X-ray radiation sources
Czasopismo:
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena (rok: 2013, tom: 189, strony: 81-95), Wydawca: Elsevier
ALD Grown Zinc Oxide with Controllable Electrical Properties
Autorzy:
E. Guziewicz, M. Godlewski, L. Wachnicki, T. A. Krajewski, G. Luka,S. Gieraltowska, R. Jakiela, A. Stonert, W. Lisowski, M. Krawczyk,J. W. Sobczak and A. Jablonski
Czasopismo:
Semiconductor Science and Technology (rok: 2012, tom: 27, strony: 74011), Wydawca: IOP Publishing
Simulation of the backscattered electron intensity of multi layer structure for the explanation of secondary electron contrast
Autorzy:
A. Sulyok, A. L. Toth, L. Zommer, M. Menyhard, A. Jablonski
Czasopismo:
Ultramicroscopy (rok: 2013, tom: 124, strony: 88-95), Wydawca: Elsevier
Studies of the Hot-pressed TiN Material by Electron Spectroscopies
Autorzy:
M. Krawczyk, W. Lisowski, J. W. Sobczak, A. Kosiński and A. Jablonski
Czasopismo:
Journal of Alloys and Compounds (rok: 2013, tom: 546, strony: 280-285), Wydawca: Elsevier
Emission depth distribution function for photoelectrons emitted by laboratory hard X-ray sources
Czasopismo:
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena (rok: 2014, tom: 195, strony: 26-42), Wydawca: Elsevier
Contribution of elastic photoelectron scattering to the shape of measured XPS intensity in-depth profile
Autorzy:
L. Zommer, W. Lisowski, A. Jablonski
Czasopismo:
Surface and Interface Science (rok: 2014, tom: 46, strony: 269-275), Wydawca: John Wiley
XPS study of arsenic doped ZnO grown by Atomic Layer Deposition
Autorzy:
D. Snigurenko, R. Jakiela, E. Guziewicz, E. Przezdziecka, M. Stachowicz, K. Kopalko, A. Barcz, W. Lisowski, J.W. Sobczak, M. Krawczyk, A. Jabłoński
Czasopismo:
Journal of Alloys and Compounds (rok: 2014, tom: 582, strony: 594-597), Wydawca: Elsevier
Improved algorithm for calculating the Chandrasekhar function
Czasopismo:
Computer Physics Communications (rok: 2013, tom: 184, strony: 440-442), Wydawca: Elsevier
Atomic layer deposition of Zn_1-xMg_xO: Al transpoarent conducting films
Autorzy:
G. Luka, B.S. Witkowski, L. Wachnicki, K. Goscinski, R. Jakiela, E. Guziewicz, M. Godlewski, E. Zielony, P. Bieganski, E. Placzek-Popko, W. Lisowski, J.W. Sobczak, A. Jablonski
Czasopismo:
Journal of Materials Science (rok: 2014, tom: 49, strony: 1512-1518), Wydawca: Springer
Cross sections for inner-shell ionization by electron impact
Autorzy:
X. Llovet, C. J. Powell, F. Salvat, A. Jablonski
Czasopismo:
Journal of Physical and Chemical Reference Data (rok: 2014, tom: 43, strony: 13102), Wydawca: AIP Publishing
Angular distribution of elastic electron backscattering from surfaces: determination of the electron inelastic mean free path
Czasopismo:
Journal of Physics D: Applied Physics (rok: 2014, tom: 47, strony: 55301), Wydawca: IOP Publishing
XPS method as a useful tool for studies of quantum well epitaxial materials: Chemical composition and thermal stability of InGaN/GaN multilayers
Autorzy:
W. Lisowski, E. Grzanka, J. W. Sobczak, M. Krawczyk, A. Jabłoński, R. Czernecki, M. Leszczyński, T. Suski
Czasopismo:
Journal of Alloys and Compounds (rok: 2014, tom: 597, strony: 181-187), Wydawca: Elsevier
Simulation of the backscattered electron intensity of multi layer structure for the explanation of secondary electron contrast
Autorzy:
A. Sulyok, A. L. Toth, L. Zommer, M. Menyhard, A. Jablonski
Czasopismo:
Ultramicroscopy (rok: 2013, tom: 124, strony: 88-95), Wydawca: Elsevier
Elastic-peak electron spectroscopy (EPES) studies of ZnO single crystals
Autorzy:
M. Krawczyk, W. Lisowski, J.W. Sobczak, A. Kosiński, A. Jabłoński
Czasopismo:
Journal of Alloys and Compounds (rok: 2014, tom: 590, strony: 553-556), Wydawca: Elsevier
Elastic Photoelectron Scattering Effects in the XPS Analysis of Stratified Samples
Czasopismo:
Journal of Physics D: Applied Physics (rok: 2012, tom: 45, strony: 315302), Wydawca: IOP Publishing
Photoelectron emission from thin overlayers
Czasopismo:
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena (rok: 2012, tom: 185, strony: 498-508), Wydawca: Elsevier
Elastic Photoelectron Scattering Effects in the XPS Analysis of Stratified Samples
Czasopismo:
Journal of Physics D: Applied Physics (rok: 2012, tom: 45, strony: 315302), Wydawca: IOP Publishing
Photoelectron transport in the surface region of solids: Universal analytical formalism for quantitative applications of electron spectroscopies
Status:
Przyjęta do publikacji
Effective attenuation lengths for photoelectrons emitted by high-energy laboratory sources
Autorzy:
A. Jablonski, C. J. Powell
Status:
Przyjęta do publikacji