Projekty finansowane przez NCN


Dane kierownika projektu i jednostki realizującej

Szczegółowe informacje o projekcie i konkursie

Słowa kluczowe

Aparatura

Wyczyść formularz

Analiza właściwości transportowych w nowej generacji cienkowarstwowych strukturach gradientowych z efektem memrystorowym

2018/29/B/ST8/00548

Słowa kluczowe:

memrystor rozpylanie magnetronowe przełączanie rezystancyjne gradientowe cienkie warstwy

Deskryptory:

  • ST8_8: Inżynieria materiałowa (biomateriały, metale, ceramika, polimery, kompozyty)

Panel:

ST8 - Inżynieria procesów i produkcji: projektowanie wyrobów, projektowanie i sterowanie procesami produkcji, konstrukcje i procesy budowlane, inżynieria materiałowa, systemy energetyczne

Jednostka realizująca:

Politechnika Wrocławska

woj. dolnośląskie

Inne projekty tej jednostki 

Kierownik projektu (z jednostki realizującej):

prof. Jarosław Domaradzki 

Liczba wykonawców projektu: 9

Konkurs: OPUS 15 - ogłoszony 2018-03-15

Przyznana kwota: 912 000 PLN

Rozpoczęcie projektu: 2019-04-01

Zakończenie projektu: 2022-09-30

Planowany czas trwania projektu: 36 miesięcy (z wniosku)

Status projektu: Projekt zakończony

Opis Projektu

Pobierz opis projektu w formacie .pdf

Uwaga - opisy projektów zostały sporządzone przez samych autorów wniosków i w niezmienionej formie umieszczone w systemie.

Dane z raportu końcowego

  • Publikacje w czasopismach (8)
  1. Analiza efektu przełączania rezystancji w strukturach cienkowarstwowych z różnym profilem składu materiałowego
    Autorzy:
    Tomasz Kotwica, Jarosław Domaradzki, Danuta Kaczmarek, Jacek Rogala, Maciej Strzyżewski
    Czasopismo:
    Elektronika - konstrukcje, technologie, zastosowania (rok: 2019, tom: 43647, strony: 14-17), Wydawca: SigmaNOT
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.15199/13.2019.7.4 - link do publikacji
  2. Memristors: a short review on fundamentals, structures, materials and applications
    Autorzy:
    Jarosław Domaradzki, Damian Wojcieszak, Tomasz Kotwica, Ewa Mańkowska
    Czasopismo:
    International Journal of Electronics and Telecomunications (rok: 2020, tom: 66, strony: 373-381), Wydawca: Polish Academy of Sciences
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.24425/ijet.2020.131888 - link do publikacji
  3. Effect of thickness on optoelectronic properties of ITO thin films IF: 1395
    Autorzy:
    Michał Mazur, Roman Pastuszek, Damian Wojcieszak, Danuta Kaczmarek, Jarosław Domaradzki, Agata Obstarczyk, Aneta Lubańska
    Czasopismo:
    Circuit World (rok: 2020, tom: on-line, strony: 44572), Wydawca: Emerald Publishing
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1108/CW-11-2019-0170 - link do publikacji
  4. Tailoring optical and electrical properties of thin-film coatings based on mixed Hf and Ti oxides for optoelectronic application IF: 5,77
    Autorzy:
    Agata Obstarczyk, Danuta Kaczmarek, Damian Wojcieszak, Michał Mazur, Jarosław Domaradzki, Tomasz Kotwica, Roman Pastuszek, Dieter Schmeisser, Piotr Mazur, Małgorzata Kot
    Czasopismo:
    Materials and Design (rok: 2019, tom: 175, strony: 107822), Wydawca: Elsevier
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1016/j.matdes.2019.107822 - link do publikacji
  5. Wpływ parametrów procesu technologicznego na właściwości cienkich warstw na bazie miedzi
    Autorzy:
    Jacek Rogala, Damian Wojcieszak, Roman Pastuszek, Ewa Mańkowska
    Czasopismo:
    Elektronika-konstrukcje, technologie, zastosowania (rok: 2019, tom: 43647, strony: 31-33), Wydawca: SigmaNOT
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.15199/13.2019.7.9 - link do publikacji
  6. Analysis of electrical properties of forward-to-open (Ti,Cu)Ox memristor rectifier with elemental gradient distribution prepared using (multi) magnetron co-sputtering process IF: 2,722
    Autorzy:
    Jarosław Domaradzki, Artur Wiatrowski, Tomasz Kotwica, Michał Mazur
    Czasopismo:
    Materials Science in Semiconductor Processing (rok: 2019, tom: 94, strony: 44818), Wydawca: Elsevier
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1016/j.mssp.2019.01.034 - link do publikacji
  7. Influence of post-process annealing temperature on structural, optical, mechanical and corrosion properties of mixed TiO2-WO3 thin films IF: 1,888
    Autorzy:
    Agata Obstarczyk, Michał Mazur, Danuta Kaczmarek, Jarosław Domaradzki, Damian Wojcieszak, Marcin Grobelny, Małgorzata Kalisz
    Czasopismo:
    Thin Solid Films (rok: 2020, tom: 698, strony: 137856), Wydawca: Elsevier
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.1016/j.tsf.2020.137856 - link do publikacji
  8. Properties of metallic and oxide thin films based on Ti and Co prepared by magnetron sputtering from sintered targets with different Co-content IF: 3,623
    Autorzy:
    Damian Wojcieszak, Michał Mazur, Patrycja Pokora, Adriana Wrona, Katarzyna Bilewska, Wojciech Kijaszek, Tomasz Kotwica, Witold Posadowski, Jarosław Domaradzki
    Czasopismo:
    Materials (rok: 2021, tom: 14, strony: 44577), Wydawca: MDPI
    Status:
    Opublikowana
    Doi:
    10.3390/ma14143797 - link do publikacji