Technologia i charakteryzacja ultracienkich warstw krzemu wytwarzanych metodą PECVD na potrzeby struktur nanoelektronicznych
2011/03/B/ST7/02595
Słowa kluczowe
Deskryptory
- ST7_5: Mikro- i nanoelektronika, optoelektronika
Panel
ST7 – Inżynieria systemów i komunikacji: elektronika, komunikacja, optoelektronika
Jednostka realizująca
Politechnika Warszawska, Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych
woj. mazowieckie
Kierownik projektu (z jednostki realizującej)
Liczba wykonawców projektu: 17
Konkurs
OPUS 2 – ogłoszony 2011-09-15
- Przyznana kwota
- 598 720 PLN
- Rozpoczęcie projektu
- 2012-08-30
- Zakończenie projektu
- 2016-02-29
- Planowany czas trwania projektu
- 42 miesiące (z wniosku)
- Status projektu
- Projekt rozliczony
Dane z raportu końcowego/rocznego
Publikacje w czasopismach (7)
-
Description of tunneling through a metal-insulator-metal junction considering Coulomb Blockade
- Autorzy:
- D. Tanous, B. Majkusiak
- Czasopismo:
- Proc. of SPIE (rok: 2013, tom: vol. 8902, strony: 89020P-1 do 8), Wydawca: Eds. P. Szczepański, R. Kisiel, R.S. Romaniuk - SPIE
- Status:
- Opublikowana
- DOI:
- 10.1117/12.2031274 – link do publikacji
-
Effects of Inner Interface Traps on High-K Gate Stack Devices Admittance Characteristics
- Autorzy:
- Andrzej Mazurak, Jakub Jasiński, Bogdan Majkusiak
- Czasopismo:
- IEEE Xplore Digital Liberary (rok: 2016, tom: brak, strony: 194-197), Wydawca: IEEE
- Status:
- Opublikowana
- DOI:
- link do publikacji
-
Effects of non-stoichiometry of silicon oxide layers in double barrier structure on high temperature annealing of ultrathin silicon layer
- Autorzy:
- R.B. Beck and P. Korb
- Czasopismo:
- IEEE Xplore Digital Library (rok: 2017, tom: brak, strony: 46026), Wydawca: IEEE
- Status:
- Opublikowana
- DOI:
- 10.1109/ULIS.2017.7962573 – link do publikacji
-
Formation of ultrathin silicon layers by PECVD and their modification for nanoelectronic and nanophotonic applications
- Autorzy:
- Kamil Ber, Romuald B Beck
- Czasopismo:
- Proc. of SPIE (rok: 2013, tom: 8902, strony: 89022A1-10), Wydawca: Eds. P. Szczepański, R. Kisiel, R.S. Romaniuk - SPIE
- Status:
- Opublikowana
- DOI:
- 10.1117/12.2030884 – link do publikacji
-
Recrystallization and oxidation - competing processes during PECVD ultrathin silicon layer high temperature annealing
- Autorzy:
- Romuald B. Beck; Kamil Ber
- Czasopismo:
- IEEE Xplore Digital Liberary (rok: 2016, tom: brak, strony: 190-193), Wydawca: IEEE
- Status:
- Opublikowana
- DOI:
- link do publikacji
-
Charging/discharging processes in nanocrystaline MOS structures - Theoretical study
- Autorzy:
- D. Tanous, A. Mazurak, B. Majkusiak
- Czasopismo:
- Journal of Physics - Conference Series (rok: 2016, tom: -, strony: -), Wydawca: -
- Status:
- Opublikowana
- DOI:
- 10.1088/issn.1742-6596 – link do publikacji
-
Small-signal admittance model of multi-traps distributed over energy and space in the insulator of MIS tunnel structures
- Autorzy:
- J. Jasiński, A. Mazurak, R. Mroczyński, B. Majkusiak
- Czasopismo:
- Microelectronic Engineering (rok: 2015, tom: 147, strony: 349-353), Wydawca: Elsevier
- Status:
- Opublikowana
- DOI:
- link do publikacji
Teksty w publikacjach pokonferencyjnych (11)
-
Effect of Inner Interface Traps on High-K Gate Stack Devices Admittance Characteristics
- Autorzy:
- A. Mazurak, J. Jasiński, B. Majkusiak
- Konferencja:
- 2016 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon (rok: 2016, strony: 110-111), Wydawca: Society for Micro- and Nanoelectronics c/o Techniche Universitat Wien
- Data:
- konferencja January 25-27 2016
- Status:
- Opublikowana
-
Ellipsometric spectroscopy as a tool for investigation of nanocrystals in ultrathin PECVD silicon layers' behavior during high temperature annealing
- Autorzy:
- R.B. Beck, P. Korb and K. Ber
- Konferencja:
- E-MRS Fall Meeting 2016 (rok: 2016, strony: 111-111), Wydawca: E-MRS
- Data:
- konferencja 19-22 September 2016
- Status:
- Opublikowana
-
Effects of non-stoichiometry of silicon oxide layers in double barrier structure on high temperature annealing of ultrathin silicon layer
- Autorzy:
- R.B. Beck and P. Korb
- Konferencja:
- 2017 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon (rok: 2017, strony: 110-111), Wydawca: Society for Micro- and Nanoelectronics c/o Institute on Nanoscience and Nanotechnology, NCSR Demokritos Athens
- Data:
- konferencja April 3-5 2017
- Status:
- Opublikowana
-
Effects of High Temperature Annealing of Double Barrier Structure with Ultrathin PECVD Silicon and Non-Stoichiometric Oxide Layers
- Autorzy:
- R.B. Beck. P. Korb
- Konferencja:
- XII Konferencja Naukowa Technologia Elektronowa ELTE'2016 (rok: 2016, strony: 46024), Wydawca: AGH Kraków
- Data:
- konferencja 11-14 września 2016r.
- Status:
- Opublikowana
-
Wytwarzanie ultracienkich warstw krzemowych metodą PECVD i ich modyfikacja dla potrzeb nanoelektroniki i nanofotoniki
- Autorzy:
- K. Ber, R.B. Beck
- Konferencja:
- XI Konferencja Naukowa Technologia Elektronowa ELTE'2013 (rok: 2013, strony: 46024), Wydawca: Eds. P. Szczepański, R. Piramidowicz - Poliechnika Warszawska
- Data:
- konferencja 16-20 2013r.
- Status:
- Opublikowana
-
Small-signal admittance model of multi-traps distributed over energy and space in the insulator of MIS tunnel structures
- Autorzy:
- J. Jasiński, A. Mazurak, R. Mroczyński, B. Majkusiak
- Konferencja:
- 19th Conference on Insulating Films on Semiconductors (INFOS 2015), 29 VI - 2 VII 2015, Udine, Włochy (rok: 2015, strony: 103-104), Wydawca: Conference Organizing Committee
- Data:
- konferencja 29 VI - 2 VII 2015
- Status:
- Opublikowana
-
Charging/discharging processes in nanocrystaline MOS structures - Theoretical study
- Autorzy:
- D. Tanous, A. Mazurak, B. Majkusiak
- Konferencja:
- MICROTECHNOLOGY AND THERMAL PROBLEMS IN ELECTRONICS (MICROTHERM 2015), 23 - 25 VI 2015 Łódź (rok: 2015, strony: 277-282), Wydawca: Lodz University of Technology
- Data:
- konferencja 23-25.07.2015
- Status:
- Opublikowana
-
Recrystallization and Oxidation - Competing Processes during PECVD Ultrathin SIliocn Layer High Temperature Annealing
- Autorzy:
- Romuald B. Beck; Kamil Ber
- Konferencja:
- 2016 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon (rok: 2016, strony: 108-109), Wydawca: Society for Micro- and Nanoelecotrnics c/o Techniche Universitat Wien
- Data:
- konferencja Januar 25-27 2016
- Status:
- Opublikowana
-
Study of the effect of tunneling through the traps inside the insulator on small-signal admittance on the MOS structure
- Autorzy:
- J. Jasiński, A. Mazurak, B. Majkusiak
- Konferencja:
- 18th Conference on Insulating Films on Semiconductor - INFOS'2013 (rok: 2013, strony: 144-145), Wydawca: Eds. L. Łukasiak, J. Grabowski - Oficyna Wydawnicza PW
- Data:
- konferencja 25-28 June 2013
- Status:
- Opublikowana
-
Analysis of competing processes of oxidation and recrystallization of amorphous silicon layers in double dielectric barrier ultra-thin structures
- Autorzy:
- K. Ber, R.B. Beck
- Konferencja:
- 18th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, WODIM 2014 (rok: 2014, strony: 145-146), Wydawca: Tyndall National Institute
- Data:
- konferencja 9-11 June 2014
- Status:
- Opublikowana
-
Theoretical andExperimental Investigation of ncMOS Structures with Ge nanocrystals for Memory and Photonic Applications
- Autorzy:
- D. Tanous, A. Mazurak, B. Majkusiak, R. Beyer
- Konferencja:
- 18th Workshop on Dielectrics ini Microelectronics, WODIM 2014 (rok: 2014, strony: 163-164), Wydawca: Tyndall National Institute
- Data:
- konferencja 9-11 June 2014
- Status:
- Opublikowana